涂胶显影机是芯片制成光刻工艺段非常重要的设备,用于实现光刻胶的超薄胶膜。总共分为两个步骤:
一、涂胶工艺:通过胶头将光刻胶滴到晶圆表面,真空吸盘吸住晶圆高速旋转进行匀胶。
通过优化算法与MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法(我们称之为温度均一控制技术),使各分区控温精度🧸达到了±0.05℃,温度均一性达到了𓆏R=0.275。
■ 机械自动化控制器 NJ / NX系列
■ NX系列 EtherCAT连接器单元
■ NX系列 温度输入单元
■ NX系列 数字输出单元
■ 温度控制精度的提升,完全建立在控制系统与程序的优化,无需更改机械结构和运动时间,导入时间更快且成本更低。
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■ 通过优化算法,🐼使各分区控温精度达到了±0.05℃,温度均一性达到了R=0.275,大幅提升了设备的性能指标与自动化水平。
■ 将原来需要人工调整的工作实现了全自动化,工程师可以释放双手,从事更具创造性、挑战性的工作。
■ 米乐m6工程师全程参与指导,后期项目调整,只需自行修改参数即可。