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๊ Solution  解决处理细则

环境温度均一技术设备在SEMI匀胶定影机器上的用途

打破技术垄断，助力SEMI行业设备国产化进程

  • 解决劳动力短缺
  • 技术传承
  • 品质提升
  • 电子

工艺介绍

涂胶显影机是芯片制成光刻工艺段非常重要的设备，用于实现光刻胶的超薄胶膜。总共分为两个步骤：
一、涂胶工艺：通过胶头将光刻胶滴到晶圆表面，真空吸盘吸住晶圆高速旋转进行匀胶。

二、均胶达到后进行烘烤坚膜，经由热处理加热盘使光刻胶中的有机质液体析出，产生光刻胶的薄型胶膜。

课题

1、升温速度不统一以及温差波动，造成晶圆加热不均

否则加水盘存在的加水欠均的症状，有机物会因此光刻胶中的个部分有机物石油醚无发能够得到合理有效蒸发，导致最终能够绘制的胶膜品级。

2、人工调盘，过程复杂，耗费工时

解决方案

1、通过温度均一控制技术，实现高精度的均匀加热

通过优化算法与MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法（我们称之为温度均一💧控制技术），使各分区控温精度达到了±0.05℃，温度均一性达到了R=0.275。

实验数据表明，可将温差控制为原有的1/5

2、调整时间仅需2秒，完全替代人工调盘

只需简洁重设，才可以达成正个发展空间或外面划分同时选定量。将原本的必须人工费调整的运转达成了全定时化，急剧避免人件费的进行，并缩减了对流畅工的依赖于。

控制系统

■ 机械自动化控制器 NJ / NX系列
■ NX系列 EtherCAT连接器单元
■ NX系列 温度输入单元
■ NX系列 数字输出单元

实现价值

1、控温精度：±0.05℃

2、温度均一性：R=0.275，其中R=Tmax-Tmin。

3、调整时间：2秒

【经营层】

■ 在整个的SEMI该这个行业激动的相互竞争条件下，这次温湿度均一控住技术性设备在涂胶成像机的软件，摆脱了国外的生产商的技术性设备垄断这个行业，力助单位进两步增加该这个行业社会价值。

【管理层】

■ 温度控制精度的提升，完全建立在控制系统与程序的优化，无需更改机械结构和运动时间，导入时间更快且成本更低。
■ 通过优化算法🐭，使各分区控温精度达到了±0.05℃，温度均一性达到了R=0.275，大幅提升了设备的性能指标与自动化水平。

【工程师层】

■ 将原来需要人工调整的工作实现了全自动化，工程师可以释放双手，从事更具创造性、挑战性的工作。
■ 欧姆龙工程师全程参与指导，后期项目调整，只需自行修改参数即可。

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