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Solution 🎐 化解设计方案

温差均一技术工艺在SEMI匀胶成像机里的利用

打破技术垄断,助力SEMI行业设备国产化进程

  • 解决劳动力短缺
  • 技术传承
  • 品质提升
  • 电子

工艺介绍

涂胶显影机是芯片制成光刻工艺段非常重要的设备,用于实现光刻胶的超薄胶膜。总共分为两个步骤:
一、涂胶工艺:通过胶头将光刻胶滴到晶圆表面,真空吸盘吸住晶圆高速旋转进行匀胶。

二、均胶做好后进行烘烤坚膜,按照升温盘使光刻胶中的充分稀释剂蒸发,制成光刻胶的超薄型胶膜。

课题

1、升温速度不统一以及温差波动,造成晶圆加热不均

如果采暖器盘现实存在采暖器不均衡的症状,会这让光刻胶中的地方有机质石油醚就没有办法实现有效性蒸发,影晌决定性自动生成的胶膜品控。

2、人工调盘,过程复杂,耗费工时

解决方案

1、通过温度均一控制技术,实现高精度的均匀加热

通过优化算法与MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法(我们称之为温度均一控制技术),使各分区控温精度🧸达到了±0.05℃,温度均一性达到了𓆏R=0.275。

实验数据表明,可将温差控制为原有的1/5

2、调整时间仅需2秒,完全替代人工调盘

只需容易控制在,便可做到一部分室内空间或面分布不均制定制定量。将从前必须要人工费改变的的工作做到了全智能化,幅宽上限制人件费的支出,并降低了了对且要熟练掌握设备工的忽略。

控制系统

■ 机械自动化控制器 NJ / NX系列
■ NX系列 EtherCAT连接器单元
■ NX系列 温度输入单元
■ NX系列 数字输出单元

实现价值

1、控温精度:±0.05℃

2、温度均一性:R=0.275,其中R=Tmax-Tmin。

3、调整时间:2秒

【经营层】

■ 在正个SEMI领域强烈的竞争与合作室内环境下,与会人员水温均一控住新方法在涂胶显影液机的软件,打烂了在国外厂家的新方法恶性竞争,注力各个企业进一次不断提升领域实力地位。

【管理层】

■ 温度控制精度的提升,完全建立在控制系统与程序的优化,无需更改机械结构和运动时间,导入时间更快且成本更低。
🍎 ■ 通过优化算法,🐼使各分区控温精度达到了±0.05℃,温度均一性达到了R=0.275,大幅提升了设备的性能指标与自动化水平。

【工程师层】

■ 将原来需要人工调整的工作实现了全自动化,工程师可以释放双手,从事更具创造性、挑战性的工作。
■ 米乐m6工程师全程参与指导,后期项目调整,只需自行修改参数即可。

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