温度均一技术在SEMI匀胶显影机上的应用|米乐m6（中国）有限公司官网

快速链接到米乐m6其他国家/地区的网站。

温差均一技术工艺在SEMI匀胶成像机里的利用

打破技术垄断，助力SEMI行业设备国产化进程

涂胶显影机是芯片制成光刻工艺段非常重要的设备，用于实现光刻胶的超薄胶膜。总共分为两个步骤：
一、涂胶工艺：通过胶头将光刻胶滴到晶圆表面，真空吸盘吸住晶圆高速旋转进行匀胶。

二、均胶做好后进行烘烤坚膜，按照升温盘使光刻胶中的充分稀释剂蒸发，制成光刻胶的超薄型胶膜。

如果采暖器盘现实存在采暖器不均衡的症状，会这让光刻胶中的地方有机质石油醚就没有办法实现有效性蒸发，影晌决定性自动生成的胶膜品控。

通过优化算法与MATLAB实现均匀加热的自动补偿算法（我们称之为温度均一控制技术），使各分区控温精度🧸达到了±0.05℃，温度均一性达到了𓆏R=0.275。

只需容易控制在，便可做到一部分室内空间或面分布不均制定制定量。将从前必须要人工费改变的的工作做到了全智能化，幅宽上限制人件费的支出，并降低了了对且要熟练掌握设备工的忽略。

■ 机械自动化控制器 NJ / NX系列
■ NX系列 EtherCAT连接器单元
■ NX系列温度输入单元
■ NX系列数字输出单元

■ 在正个SEMI领域强烈的竞争与合作室内环境下，与会人员水温均一控住新方法在涂胶显影液机的软件，打烂了在国外厂家的新方法恶性竞争，注力各个企业进一次不断提升领域实力地位。

■ 温度控制精度的提升，完全建立在控制系统与程序的优化，无需更改机械结构和运动时间，导入时间更快且成本更低。
🍎 ■ 通过优化算法，🐼使各分区控温精度达到了±0.05℃，温度均一性达到了R=0.275，大幅提升了设备的性能指标与自动化水平。

■ 将原来需要人工调整的工作实现了全自动化，工程师可以释放双手，从事更具创造性、挑战性的工作。
■ 米乐m6工程师全程参与指导，后期项目调整，只需自行修改参数即可。